表面污染杂质分析——复达客户检测案例
2021年12月,某公司委托我们对他们生产的陶瓷块进行表面分析,判断是否被污染,经过和客户沟通之后,提供了解决方案,做二次离子质谱和sem的点扫进行识别判断,判断了表面污染的离子情况,并且经过后续沟通,再继续做ICPMS,进而判断佐证里面还有的金属杂质元素含量情况。
sic陶瓷块
进行表面污染杂质分析。
1.1、SIMS测试
分析原理:飞行时间-二次离子质谱仪(TOF-SIMS),是一种非常灵敏的表面分析技术。它利用一次离子激发样品表面微量的二次离子,根据二次离子飞行到探测器的时间不同来测定离子质量。由于TOF-SIMS中离子飞行时间只依赖于它们的质量,故其一次脉冲就可得到一个全谱,离子利用率很高,能实现对样品几乎无损的静态分析。一次离子将其部分能量传递给晶格原子,这些原子中有一部分向表面运动,并把能量传递给表面离子使之发射,这种过程成为粒子溅射。电离的二次粒子(溅射的原子、分子和原子团等)按质荷比实现质谱分离。
结果分析:对样品表面进行300*300um进行SIMS正模式、负模式扫描测试,得到结果如下:
1.2、SEM点扫测试:
采用扫描电子显微镜对圆片表面进行点扫测试,测定其表面元素的种类含量
(备注:SEM点扫结果是相对定量,不是绝对定量,可以做对比分析来看)。
和客户讲解了测试原理,客户对结果也很满意,有助于他们做后续研究。